• HTRO+EDI0.5-50T半导体产品清洗超纯水设备
    半导体产品清洗超纯水设备

    半导体产品清洗超纯水设备工艺:预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)

    更新时间:2020-03-22型号:HTRO+EDI0.5-50T
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